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从新出发|凯普林全新形象亮相中国国际光电博览会

从新出发|凯普林全新形象亮相中国国际光电博览会

来源: 发布时间:2021-09-22 浏览量:

2021年9月16日,第23届中国国际光电博览会在深圳国际会展中心盛大开幕,超过3000家展商参展,首日观众人数超4万。凯普林光电以全新面貌携三大系列二十余款产品登台亮相,吸引众多媒体与用户前来交流。

全新展台 全新形象

凯普林以全球激光解决方案领跑者为愿景,致力于创造更好的激光产品,成就更高效、更美好的世界,为全球客户提供半导体、光纤、超快激光产品及解决方案。十八年后的今天,我们以全新定位、崭新形象亮相中国国际光电博览会。在“创变非凡”的价值观下,凯普林将以持续突破技术边界的态度,不断为客户提供更多价值。

效率提升 稳定出色——30W双路皮秒紫外激光器

凯普林最新推出30W双路皮秒紫外激光器,每路可输出大于15W的皮秒紫外光束,可满足并行加工的需求,既节省成本也提高了加工效率。激光器采用更稳定的设计方案,具有优异的光学指标和一致性。相比上一代,有更好的产品稳定性和可靠性,独特设计确保更严苛的环境下也能稳定使用。

30W双路皮秒紫外激光器

定制设计 适应广泛——DS3半导体激光器系统

DS3半导体激光器系统采用多样的芯片材料,可以实现从紫外到红外不同的波长输出,可以满足材料加工、科学研究、工业泵浦、医疗美容、传感检测等不同应用的需求,是目前应用最为广泛的激光光源之一。凯普林能够为客户提供多样化的外观方案,满足工业及科研不同类型客户需求。设备整体设计方便客户安装及固定,地脚设计功能可以有效减少设备运行中的振动应力。

DS3半导体激光器系统

全新产品 新装亮相——405nm LDI半导体激光器系统

405nm高功率半导体激光器主要应用于LDI(激光直写)。激光直写区别于传统曝光显影的光刻方式,利用激光直接在材料上写出任意图形。面对国外的光刻机厂商对中国IC产业的封锁,激光直写作为一种全新的技术方案,可实现在光刻领域的弯道超车。凯普林405nm激光器系统功率12W至30W可选,配合可插拔400um光纤、系统采用RS232、I/O等控制方式,具备过流、过压、过温等多重保护措施,保证使用安全可靠。

405nm高功率半导体激光器

高端制造 效率为王——万瓦光纤激光器系列

万瓦级市场高速增长是大势所趋,随着高端装备制造的飞速进步,激光切割在这中间扮演了非常重要的作用。凯普林基于自主知识产权的核心泵浦源,研发了万瓦级合束掺镱光纤激光器,它拥有更佳的光束质量,更大的光洁度;模式稳定,模块化全智能设计,所有外观机壳设计已达到IP65,能够承受严寒酷暑,轻松应对繁杂的工业环境。凯普林超高功率节能产品切割厚板更快速、更高效,更精准,优质的光束质量保证切割垂直度好,为企业提质增效提供强有力的保障。

万瓦光纤激光器系列

凯普林光电深耕激光行业十八载,为全球用户提供激光解决方案。欢迎您来深圳国际会展中心(宝安)2馆A192展位参观,我们静候光临。

 
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